مطالعه و شبیه سازی حسگر ضریب شکست بلور فوتونی

پایان نامه
  • وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه ارومیه - دانشکده علوم پایه
  • نویسنده ندا شهابی
  • استاد راهنما رضا خردمند هادی گودرزی
  • تعداد صفحات: ۱۵ صفحه ی اول
  • سال انتشار 1391
چکیده

بلورهای فوتونی ساختارهای متناوبی از دی الکتریک ها هستند که بسته به ابعاد این تناوب در سه دسته ی کلی یک بعدی، دو بعدی و سه بعدی جای می گیرند. از زمان کشف بلورهای فوتونی در سال 1887 توسط لرد رایله، اندکی بیش از یک قرن می گذرد. با وجود این، امروزه بلورهای فوتونی جایگاه ویژه ای در زمینه های پژوهشی و کاربردی یافته اند و شاخه ی گسترده ای از فناوری را از آن خود کرده اند. در این کار پژوهشی از بلورهای فوتونی دو بعدی تیغه ای با شبکه ی هگزاگونال که از ایجاد حفره های منظمی در زمینه ی سیلیکون به وجود آمده اند، به عنوان حسگر ضریب شکست استفاده شده است. در ساختار این بلورهای فوتونی، از نقص های خطی به عنوان موجبر و از نقص های نقطه ای به عنوان کاواک استفاده شده است. عوامل تغییر دهنده ی ضریب شکست، مختلف هستند. صرفنظر از ماهیت این عوامل، در این پژوهش نتیجه ی عمل حائز اهمیت است. حسگر مورد مطالعه تغییرات ضریب شکست محیط را تشخیص داده و آن را در خروجی به صورت جابجایی در طول موج تشدید کاواک با موج الکترومغناطیسی نشان می دهد. بر اساس این خروجی، حساسیت حسگر محاسبه می شود. طی چند مرحله، با اعمال تغییراتی در ساختمان بلور فوتونی عملکرد حسگر بهینه سازی می گردد.

۱۵ صفحه ی اول

برای دانلود 15 صفحه اول باید عضویت طلایی داشته باشید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

طراحی حسگر زیستی تشدید پلاسمون سطحی شامل بلور فوتونی یک‌بعدی برای تشخیص بیماری سرطان

In recent years, development of highly sensitive biosensors is the main purpose of researchers to diagnose and prevent diseases. Accordingly, in this paper, surface plasmon resonance (SPR) biosensor has been designed based on one dimensional layered structures. With regard to the fact that the quality of SPR sensors strongly depends on the reflectance amplitude and full width at half maximum (F...

متن کامل

اسپلیتر بلور فوتونی مبتنی برموجبر

یک موجبر بلور فوتونی در این مقاله ارائه شده است. این ساختار آرایه دو بعدی از میله‌های سیلیکونی است که در آرایش مثلثی چیده شده‌ است. میله‌ها در زمینه هوا و در صفحه x-z قرار گرفته است. ساختار موجبر با حذف میله‌های سیلیکون ایجاد شده است. آرایش شکاف باند در این اسپلیتر با روش FDTD بررسی شد. این موجبر می‌تواند نقش اسپلیتر را ایفا کند. با استفاده از این آرایه اسپلیتر دو پورتی و سه پورتی ایجاد شده است...

متن کامل

طراحی ، شبیه سازی و ساخت بلور فوتونی و امکان سنجی استفاده در حسگر نوری

در این پایان نامه ابتدا راه کاری تجربی برای افزایش کارآیی ابزارهای فوتوولتایی با استفاده بلور فوتونی ارائه شده است. نشان داده می شود که با استفاده از این راه کار بلور فوتونی می تواند به عنوان یک لایه نازک واسط عمل کند که با تغییر تدریجی ضریب شکست باعث جفت شدن بهتر ضریب شکست بین هوا و زیر لایه آشکارساز شده و بازتاب را به شدت کاهش دهد. این جفت شدگی خوب ضریب شکست می تواند به عنوان یک لایه ضد بازتا...

15 صفحه اول

شبیه سازی میکرو سنسور اندازه گیری با استفاده از بلور فوتونی

در این مقاله با استفاده از ساختارهای بلور فوتونی دو بعدی، یک میکروسنسور جابه جایی طراحی کردیم. این ساختار شامل یک شش ضلعی است که در هر ضلع آن 7 حفره قرار گرفته است. جنس حفره ها هواست که در یک زمینۀ سیلیکونی قرار داده شده است. حفره ها در یک آرایش مثلثی چیده شده اند. در این میکروسنسور ابتدا با استفاده از شبیه سازی روش تفاضل محدود حوزۀ زمان مقادیر بهینه فرکانس کاری و ثابت شیکه بلور فوتونی محاسبه ش...

متن کامل

محاسبه مد نقص در موجبرهای بلور فوتونی دو بعدی متشکل از سه ضریب شکست متفاوت

در این پایان نامه ساختار نواری موجبر بلور فوتونی دو بعدی با شبکه مربعی از استوانه های دی الکتریک با سطح مقطع های دایره ای، بیضی و لوزی با استفاده از روش بسط موج تخت مورد مطالعه قرار داده ایم. اولین هندسه، موجبر بلور فوتونی با استوانه های دی الکتریک از جنس گالیم آرسناید با سطح مقطع دایره ای است که در دو مورد زمینه از جنس هوا و کربن قرار گرفته است. دومین هندسه، موجبر بلور فوتونی با استوانه های دی...

15 صفحه اول

تنظیم ضریب جذب غیرخطی بلور فوتونی یک بعدی شامل نقص لایه گرافن

امروزه نانوساختار‌های گرافن استعداد چشمگیری برای استفاده در کاربردهایاپتوالکترونیک غیرخطی مانند فیلترهای باندگذر باریک از خود نشان داده‌اند. در این مقاله، میزان جذب غیرخطی بلور فوتونی یک بعدی شامل لایه‌های دی‌الکتریک Ta2O5 و SiO2 و لایه گرافن به عنوان نقص ساختار که دارای خاصیت غیرخطی نوری است، از جنبه نظری بررسی شده است. به دلیل پذیرفتاری غیرخطی مرتبۀ سوم قوی گرافن، اثر اپتیکی کر یکی از اثرات غ...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه ارومیه - دانشکده علوم پایه

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023